Metody zápisu nanostruktur rastrovací sondou = Scanning Probe Nanolithography Methods
AFM (atomic force microscopy) nanolithography can be used for preparation of nanostructures in various fields such as nanodevices, nanoantenas and biosensors. Several methods of AFM nanolithography (local anodic oxidation, electron resist exposure, dip pen nanolithography and nanoscratching), their advantages and essential properties are described.
Uloženo v:
Podrobná bibliografie
- Hlavní autor
- Další autoři
- , , ,
- Typ dokumentu
- Články
- Fyzický popis
- Ilustrace
- Publikováno v
- Chemické listy. -- ISSN 0009-2770. -- Roč. 108, č. 10 (2014), s. 937-941
- Témata
- Popis jednotky
- 8 obrázků
- Bibliografie
- Literatura na s. 940-941,
MARC
LEADER | 00000naa a2200000 i 4500 | ||
---|---|---|---|
001 | czpb000168542 | ||
003 | CZ PrUZP | ||
005 | 20171211144942.0 | ||
007 | ta | ||
007 | cr cn | ||
008 | 171208s2014 xr a f b 000 0 cze d | ||
040 | |a ABA009 |b cze |e rda | ||
041 | 0 | |a cze |b eng | |
072 | 7 | |a 620.1/.2 |x Nauka o materiálu |2 Konspekt |9 19 | |
072 | 7 | |a 53 |x Fyzika |2 Konspekt |9 6 | |
080 | |a 620.2-024-022.532 |2 MRF | ||
080 | |a 539.24-022.532 |2 MRF | ||
080 | |a [53.086:004.352]:539.186 |2 MRF | ||
100 | 1 | |a Urbánek, Michal, |u Ústav přístrojové techniky AV ČR, Brno |4 aut | |
245 | 1 | 0 | |a Metody zápisu nanostruktur rastrovací sondou = |b Scanning Probe Nanolithography Methods / |c Michal Urbánek, Stanislav Krátký, Milan Matějka, Vladimír Kolařík a Miroslav Horáček |
246 | 3 | 1 | |a Scanning Probe Nanolithography Methods |
300 | |b Ilustrace | ||
336 | |a text |b txt |2 rdacontent | ||
337 | |a bez média |b n |2 rdamedia | ||
338 | |a svazek |b nc |2 rdacarrier | ||
500 | |a 8 obrázků | ||
504 | |a Literatura na s. 940-941, |b 29 záznamů | ||
520 | 3 | 9 | |a AFM (atomic force microscopy) nanolithography can be used for preparation of nanostructures in various fields such as nanodevices, nanoantenas and biosensors. Several methods of AFM nanolithography (local anodic oxidation, electron resist exposure, dip pen nanolithography and nanoscratching), their advantages and essential properties are described. |9 eng |
530 | |a Dostupné též na internetu (ISSN 1213-7103) | ||
546 | |a Český text, anglický abstrakt | ||
650 | 0 | 7 | |a PARTICLE SIZE |2 agrovoc |
650 | 0 | 7 | |a mikroskopie |2 agrovoc |
650 | 0 | 7 | |a OXIDATION |2 agrovoc |
650 | 0 | 7 | |a rozměry částic |2 agrovoc |
650 | 0 | 7 | |a oxidace |2 agrovoc |
653 | 0 | |a AFM |a atomic force microscopy |a mikroskopie atomárních sil |a mikroskopie v blízkém poli |a nanostruktury |a rastrovací sonda |a lokální anodická oxidace |a rytí hrotem | |
700 | 1 | |a Krátký, Stanislav, |u Ústav přístrojové techniky AV ČR, Brno |4 aut | |
700 | 1 | |a Matějka, Milan, |u Ústav přístrojové techniky AV ČR, Brno |4 aut | |
700 | 1 | |a Kolařík, Vladimír, |u Ústav přístrojové techniky AV ČR, Brno |4 aut | |
700 | 1 | |a Horáček, Miroslav, |u Ústav přístrojové techniky AV ČR, Brno |4 aut | |
773 | 0 | |t Chemické listy |x 0009-2770 |g Roč. 108, č. 10 (2014), s. 937-941 |q 108:10 |9 2014 | |
856 | 4 | 1 | |u http://www.chemicke-listy.cz/docs/full/2014_10_937-941.pdf |q text/pdf |y Plný text |4 N |
910 | |a ABA009 |x czpb000168542 | ||
990 | |a RS | ||
998 | |a http://aleph.nkp.cz/F/?func=direct&doc_number=001695186&local_base=ANL |